三星3nm芯片良率已超20% 良品率已步入正轨

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发表于 2024-7-13 23:20:50 | 显示全部楼层 |阅读模式

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三星公司于7月9日发布了新闻稿,宣布3nm工艺的良率和性能稳定,并表示整个工艺项目正在按计划进行。之前有报道称三星电子的Exynos 2500芯片目前良率仍略低于20%,但三星在最新声明中否认了这种传闻,并表示第二代3nm工艺已经实现性能稳定,并且产量已经步入正轨。
三星还表示积极与设计解决方案合作伙伴(DSP)合作,提供多项目晶圆(MPW)服务。今年,三星的MPW服务总计为32个,涵盖了生产高性能功率半导体的4纳米工艺到BCD130纳米工艺,相较于去年增加了约10%。预计到2025年,这一数字将达到35个。
以上是关于三星最新发布的3nm工艺的信息。
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